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論文

XAFS測定による模擬廃棄物ガラスの化学状態評価

永井崇之; 下山巖; 岡本芳浩; 秋山大輔*; 有馬立身*

Photon Factory Activity Report 2019 (インターネット), 3 Pages, 2020/00

http://pfwww.kek.jp/acr/2019pdf/u_reports/pf19b0042.pdf

模擬HAWやガラス原料にU化合物を添加してU含有模擬廃棄物ガラスを作製し、U等の化学状態を硬X線領域のXAFS測定により評価した。その結果、U含有ガラスとU添加無ガラスのXAFS測定結果を比較し、廃棄物成分のCeの原子価がU共存により酸化する傾向を確認した。また、ラマン分光測定でガラス組成や作製条件によってSi-O構造が異なることから、軟X線領域のSiのK吸収端XAFS測定を試みた結果、Siの局所構造が組成によって僅かながら変化することを確認した。